2024溢鑫科創(chuàng)攜手Voltera, Nanoprintek等多家國(guó)際知名企業(yè)共創(chuàng)微納技術(shù)新紀(jì)元
13年來(lái)伴隨著國(guó)內(nèi)外微納米行業(yè)蓬勃發(fā)展，溢鑫科創(chuàng)一直深耕柔性印刷電子領(lǐng)域和微納米加工領(lǐng)域，也逐漸成長(zhǎng)為業(yè)內(nèi)舉足輕重的龍頭企業(yè)；現(xiàn)有產(chǎn)品包括擠出式，壓電式，氣溶膠，EHD電流體，毛細(xì)作用，不規(guī)則直寫(xiě)，凹印柔印狹縫涂布，脈沖光燒結(jié)，直寫(xiě)光刻，薄膜沉積，離子濺射鍍膜儀等；
為了提供更專業(yè)更先進(jìn)的微納技術(shù)解決方案，2024年新年伊始，作為國(guó)內(nèi)微納米技術(shù)和柔性印刷電子專業(yè)供應(yīng)商，溢鑫科創(chuàng)強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手加拿大Voltera柔性微電子打印機(jī)/PCB電路板打印機(jī)，美國(guó)Nanoprintek干材料微電子打印機(jī)，瑞士Swiss Cluster ALD/PVD多層復(fù)合原子層薄膜沉積系統(tǒng)，捷克Wegstr PCB電路板刻制機(jī)等微納領(lǐng)域國(guó)際知名企業(yè)，共創(chuàng)微納技術(shù)新紀(jì)元。
Voltera柔性微電子打印機(jī)：
Voltera V-one 和 Nova 基于先進(jìn)的高精度擠出式增材制造技術(shù), 搭配有高精度打印頭, 高靈敏智能探頭, 實(shí)時(shí)閉環(huán)壓力反饋, 光學(xué)疊層對(duì)位, 掃描路徑跟蹤反饋等先進(jìn)功能, 兼容從低粘度油墨到高粘度漿料的無(wú)掩模打印, 即使不平襯底上也能應(yīng)對(duì)自如, 不但解決了傳統(tǒng)工藝諸多技術(shù)瓶頸且不挑材料和襯底; Voltera全球已銷售數(shù)千臺(tái), 遍布各微尺度增材制造和柔性印刷電子實(shí)驗(yàn)室且好評(píng)如潮;
Nanoprintek干材料微電子打印機(jī)：
Nanoprintek依托超過(guò)30年激光微加工和微尺度增材制造經(jīng)驗(yàn), 發(fā)明的創(chuàng)新激光誘導(dǎo)干材料打印技術(shù)將PLD脈沖激光沉積和無(wú)掩模打印技術(shù)相結(jié)合, 突破了傳統(tǒng)濕法工藝諸多技術(shù)瓶頸, 可原位按需生成各種純的納米粒子如金屬、絕緣體、半導(dǎo)體、超導(dǎo)體、鐵磁類、壓電類、合金類、陶瓷、復(fù)合材料等, 在各種基材如PI、PET、PDMS、紙張、硅片、金屬、陶瓷甚至可降解生物材料上制備微電子器件如混合柔性印刷電子、各種功能傳感器、超導(dǎo)微型電池/超級(jí)電容器等.
Swiss Cluster ALD/PVD多層復(fù)合原子層薄膜沉積系統(tǒng)：
傳統(tǒng)復(fù)合薄膜需不同腔室真空互聯(lián), 流程復(fù)雜且成本高昂, 因樣品需在不同腔室移動(dòng)因此工藝繁瑣操作耗時(shí)且無(wú)法原位制備多層復(fù)合薄膜; 而Swiss Cluster突破常規(guī), 無(wú)需多個(gè)腔室和輸送臂等昂貴互聯(lián)部件,極大減少互聯(lián)設(shè)備成本和占地面積, 其腔體垂直布置且中部巧妙設(shè)計(jì)一個(gè)自動(dòng)化閘閥從而實(shí)現(xiàn)在無(wú)需破壞真空時(shí)將ALD和PVD兩工藝無(wú)縫原位組合, 且不同工藝切換時(shí)樣品一直保持原位固定, 結(jié)合實(shí)時(shí)原位計(jì)量學(xué)可以輕松高效低成本實(shí)現(xiàn)超高質(zhì)量數(shù)十到數(shù)百個(gè)ALD/PVD/PECVD多層復(fù)合納米薄膜;
