? 臺(tái)式無掩模直寫
? 業(yè)內(nèi)性價(jià)比極高
? 多個(gè)讀寫頭配置
? 簡單好用易上手
臺(tái)式無掩膜激光直寫光刻機(jī)
? 全球知名微納加工中心選擇
? 直寫光刻領(lǐng)域歷史悠久品牌
? 獨(dú)特的平行四讀寫頭設(shè)計(jì)
? 靈活可定制化大面積選擇
Microtech無掩模直寫光刻系統(tǒng)
? 新一代高速ALD技術(shù)
? 原位復(fù)合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級(jí)PEALD等離子增強(qiáng)
Swiss Cluster ALD高性能原子層沉積系統(tǒng) (高速ALD)
? 新一代高速ALD技術(shù)
? 原位復(fù)合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級(jí)PEALD等離子增強(qiáng)
Swiss Cluster ALD原位多層復(fù)合原子層沉積系統(tǒng)
? 新一代超高速ALD技術(shù)
? 原位復(fù)合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級(jí)PEALD等離子增強(qiáng)
Swiss Cluster工業(yè)級(jí)超高速ALD原子層沉積系統(tǒng)
? 磁控濺射鍍膜
? 有機(jī)物低溫金屬沉積
? 電子束蒸鍍
? 熱蒸發(fā)
英國Korvus多模塊復(fù)合薄膜沉積系統(tǒng)
? 大于5000mm2/min效率
? 可達(dá)0.5um刻寫線寬精度
? 可達(dá)0.5um校準(zhǔn)對(duì)位精度
? 最大可加工到12英寸尺寸
高速高分辨無掩模直寫光刻機(jī)
? 皮秒短脈沖PLD薄膜沉積
? 源頭遏制微粒及飛濺現(xiàn)象
? PulseLion全固態(tài)鋰電技術(shù)
? LISA鋰硫電池項(xiàng)目技術(shù)
Pulsedeon脈沖激光薄膜沉積系統(tǒng)
? Sputter多靶磁控濺射
? Evaporator多源熱蒸發(fā)
? PLD激光脈沖沉積
? 多種鍍膜工藝一體化
Vac Coat多靶磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
? 臺(tái)式對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
? 業(yè)內(nèi)性價(jià)比很高
? 搭配多個(gè)光學(xué)物鏡
? 性能穩(wěn)定易上手
臺(tái)式Maskaligner對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)
? 基于PDMS制備3D微流控
? 實(shí)驗(yàn)室科研及產(chǎn)業(yè)大規(guī)模
? 相對(duì)傳統(tǒng)2PP性價(jià)比很高
? 廣泛應(yīng)用微電子及生物
Microfluidics 3D微流控打印機(jī)
? 等離子清洗，活化，改性
? 桌面式設(shè)計(jì)性價(jià)比高
? 性能穩(wěn)定做工優(yōu)良
?
iPlasma多功能等離子表面處理儀
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