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產(chǎn)品中心
Product Center

研發(fā)型印刷電子

工業(yè)型印刷電子

微納米加工及薄膜沉積

顯微鏡及鍍膜儀

Microtech無掩模直寫光刻系統(tǒng)

產(chǎn)品詳情

Microtech是1982年美國MIT林肯國家實驗室高科技孵化企業(yè), 也是全球最早商業(yè)化激光直寫光刻系統(tǒng)品牌之一, 現(xiàn)階段其主打LW405系列德國SUSS參與合作, 且已發(fā)展細(xì)分為科研級, 產(chǎn)業(yè)級, 半導(dǎo)體千束級, 可適用于研發(fā), 小規(guī)模量產(chǎn), 以及大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化, 除了高性能外, 其可靠性和多功能性也得到業(yè)界的一致認(rèn)可和好評. 為了滿足更多用戶特殊需求, Microtech還提供定制化服務(wù), 如定制化平行多讀寫頭, 最大可到800mm加工面積, 產(chǎn)業(yè)級加工效率, 偏振極化調(diào)試等;

Microtech LW405系列全球典型的客戶有: 英國曼徹斯特大學(xué)石墨烯研究中心(兩臺), 英國劍橋大學(xué)石墨烯中心(兩臺), MIT麻省理工林肯實驗室, 新加坡國立大學(xué)(兩臺), ESA歐洲空間研究與技術(shù)中心, NASA美國國家航空航天局等; 典型應(yīng)用包括掩膜板制作, 衍射光學(xué)器件, 多層器件套刻, 微電子MEMS/NEMS/傳感器, 微流體器件, 光波管, MICs微波集成電路, 石墨烯器件, 太陽能光電板, 灰階3D光刻, 表面光化學(xué)等.

現(xiàn)階段Microtech產(chǎn)品已遍布國內(nèi)各大知名院所, 如上海交通大學(xué)微納米加工平臺, 清華大學(xué)精儀系, 北京大學(xué)微納米加工平臺, 廈門大學(xué)微納米加工平臺等, 且除了常見的405nm和375nm外, 我們也是業(yè)內(nèi)獨(dú)特可配置三光源的無掩模光刻機(jī), 增配的213nm DUV光源可很好的適用于PMMA的直接微納加工(其他廠家均無此功能).

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩模板的設(shè)計通常需要經(jīng)常改變。激光直寫光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計電子掩模板的方法，克服了這一問題。與通過物理掩模板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過電腦軟件控制，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案，無需掩膜工序。絕大多數(shù)利用電子束刻蝕制造的器件只有很小的一部分結(jié)構(gòu)需要用到電子束刻蝕的高分辨率，而大部分曝光時間都浪費(fèi)在了如電極連接等大面積結(jié)構(gòu)的生成上。Microtech可以被用在混合模式刻蝕工藝上：只用費(fèi)用昂貴、速度緩慢的電子束刻蝕加工細(xì)小的結(jié)構(gòu)，用成本低廉的Microtech加工大面積部分。Microtech先進(jìn)的對準(zhǔn)機(jī)制可以使兩部工序完美結(jié)合。因此Microtech也適用于已經(jīng)擁有電子束刻蝕的實驗環(huán)境。

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