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    產(chǎn)品中心
    Product Center
    研發(fā)型印刷電子
    工業(yè)型印刷電子
    微納米加工及薄膜沉積
    顯微鏡及鍍膜儀
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    ? 臺式無掩模直寫
    ? 業(yè)內(nèi)性價比極高
    ? 多個讀寫頭配置
    ? 簡單好用易上手

    臺式無掩膜激光直寫光刻機
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    ? 全球知名微納加工中心選擇
    ? 直寫光刻領域歷史悠久品牌
    ? 獨特的平行四讀寫頭設計
    ? 靈活可定制化大面積選擇

    Microtech無掩模直寫光刻系統(tǒng)
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    ? 新一代高速ALD技術(shù)
    ? 原位復合ALD+PVD
    ? 原位制備多層納米薄膜
    ? 可升級PEALD等離子增強

    Swiss Cluster ALD高性能原子層沉積系統(tǒng) (高速ALD)
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    ? 新一代高速ALD技術(shù)
    ? 原位復合ALD+PVD
    ? 原位制備多層納米薄膜
    ? 可升級PEALD等離子增強

    Swiss Cluster ALD原位多層復合原子層沉積系統(tǒng)
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    ? 新一代超高速ALD技術(shù)
    ? 原位復合ALD+PVD
    ? 原位制備多層納米薄膜
    ? 可升級PEALD等離子增強

    Swiss Cluster工業(yè)級超高速ALD原子層沉積系統(tǒng)
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    ? 磁控濺射鍍膜
    ? 有機物低溫金屬沉積
    ? 電子束蒸鍍
    ? 熱蒸發(fā)

    英國Korvus多模塊復合薄膜沉積系統(tǒng)
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    ? 大于5000mm2/min效率
    ? 可達0.5um刻寫線寬精度
    ? 可達0.5um校準對位精度
    ? 最大可加工到12英寸尺寸

    高速高分辨無掩模直寫光刻機
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    ? 皮秒短脈沖PLD薄膜沉積
    ? 源頭遏制微粒及飛濺現(xiàn)象
    ? PulseLion全固態(tài)鋰電技術(shù)
    ? LISA鋰硫電池項目技術(shù)

    Pulsedeon脈沖激光薄膜沉積系統(tǒng)
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    ? Sputter多靶磁控濺射
    ? Evaporator多源熱蒸發(fā)
    ? PLD激光脈沖沉積
    ? 多種鍍膜工藝一體化

    Vac Coat多靶磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
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    ? 臺式對準光刻機
    ? 業(yè)內(nèi)性價比很高
    ? 搭配多個光學物鏡
    ? 性能穩(wěn)定易上手

    臺式Maskaligner對準光刻機
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    ? 基于PDMS制備3D微流控
    ? 實驗室科研及產(chǎn)業(yè)大規(guī)模
    ? 相對傳統(tǒng)2PP性價比很高
    ? 廣泛應用微電子及生物

    Microfluidics 3D微流控打印機
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    ? 等離子清洗,活化,改性
    ? 桌面式設計性價比高
    ? 性能穩(wěn)定做工優(yōu)良
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    iPlasma多功能等離子表面處理儀
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    ? 基于玻璃3D復雜微器件
    ? 加工精度小于1um
    ? 表面精細度優(yōu)于10nm
    ? 深寬比優(yōu)于500比1

    FemtoPrint飛秒激光3D打印機
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    FemtoLAB飛秒激光微納米加工系統(tǒng)
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    Glowresearch Autoglow多功能等離子體表面處理系統(tǒng)
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