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產(chǎn)品中心
Product Center
研發(fā)型印刷電子
工業(yè)型印刷電子
微納米加工及薄膜沉積
顯微鏡及鍍膜儀
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? 臺式無掩模直寫
? 業(yè)內(nèi)性價比極高
? 多個讀寫頭配置
? 簡單好用易上手

臺式無掩膜激光直寫光刻機
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? 全球知名微納加工中心選擇
? 直寫光刻領域歷史悠久品牌
? 獨特的平行四讀寫頭設計
? 靈活可定制化大面積選擇

Microtech無掩模直寫光刻系統(tǒng)
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? 新一代高速ALD技術(shù)
? 原位復合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級PEALD等離子增強

Swiss Cluster ALD高性能原子層沉積系統(tǒng) (高速ALD)
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? 新一代高速ALD技術(shù)
? 原位復合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級PEALD等離子增強

Swiss Cluster ALD原位多層復合原子層沉積系統(tǒng)
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? 新一代超高速ALD技術(shù)
? 原位復合ALD+PVD
? 原位制備多層納米薄膜
? 可升級PEALD等離子增強

Swiss Cluster工業(yè)級超高速ALD原子層沉積系統(tǒng)
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? 磁控濺射鍍膜
? 有機物低溫金屬沉積
? 電子束蒸鍍
? 熱蒸發(fā)

英國Korvus多模塊復合薄膜沉積系統(tǒng)
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? 大于5000mm2/min效率
? 可達0.5um刻寫線寬精度
? 可達0.5um校準對位精度
? 最大可加工到12英寸尺寸

高速高分辨無掩模直寫光刻機
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? 皮秒短脈沖PLD薄膜沉積
? 源頭遏制微粒及飛濺現(xiàn)象
? PulseLion全固態(tài)鋰電技術(shù)
? LISA鋰硫電池項目技術(shù)

Pulsedeon脈沖激光薄膜沉積系統(tǒng)
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? Sputter多靶磁控濺射
? Evaporator多源熱蒸發(fā)
? PLD激光脈沖沉積
? 多種鍍膜工藝一體化

Vac Coat多靶磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
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? 臺式對準光刻機
? 業(yè)內(nèi)性價比很高
? 搭配多個光學物鏡
? 性能穩(wěn)定易上手

臺式Maskaligner對準光刻機
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? 基于PDMS制備3D微流控
? 實驗室科研及產(chǎn)業(yè)大規(guī)模
? 相對傳統(tǒng)2PP性價比很高
? 廣泛應用微電子及生物

Microfluidics 3D微流控打印機
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? 等離子清洗,活化,改性
? 桌面式設計性價比高
? 性能穩(wěn)定做工優(yōu)良
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iPlasma多功能等離子表面處理儀
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? 基于玻璃3D復雜微器件
? 加工精度小于1um
? 表面精細度優(yōu)于10nm
? 深寬比優(yōu)于500比1

FemtoPrint飛秒激光3D打印機
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FemtoLAB飛秒激光微納米加工系統(tǒng)
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Glowresearch Autoglow多功能等離子體表面處理系統(tǒng)
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